- Термин
- плазменно-химическое осаждение из газовой фазы
- Термин на английском
- plasma-enhanced chemical vapor deposition
- Синонимы
- плазмохимическое газофазное осаждение, осаждение из паровой фазы, стимулированное плазмой
- Аббревиатуры
- PECVD, ПХО, ПХГФО
- Связанные термины
- нанопорошок, углеродные нанотрубки
- Определение
- процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы
- Описание
Технология плазмохимического осаждения использует газоразрядную плазму для разложения реакционного газа на активные радикалы. Применение различных приемов возбуждения плазмы в реакционном объеме и управление ее параметрами позволяет интенсифицировать процессы роста покрытий, проводить осаждение аморфных и поликристаллических пленок при значительно более низких температурах подложки, делает более управляемыми процессы формирования заданного микрорельефа, структуры, примесного состава и других характеристик покрытия по сравнению с аналогичныхи процессами при химическом осаждении из газовой фазы (CVD), основанном на термическом разложении реакционного газа.
- Авторы
- Журавлева Наталья Геннадиевна
- Наймушина Дарья Анатольевна
- Ссылки
- НТЦ Нанотехнология,© 2006 URL: www.nano.org.ua
- Передовые плазменные технологии / © 2008 Intech URL: www.plasmasystem.ru
- Иллюстрации
Пример применения ПХО: Массив углеродных нанотрубок, выращенных на металлических катализаторах
УНТ были получены из плазмы, содержащей ацетилен и аммиак в соотношении 1:3, при температуре 750 °С и при пониженном давлении.
Изменение технологических режимов модуля плазменного осаждения из газовой фазы позволяет получать нанотрубки различной длины и диаметра.- Теги
- Разделы
- Плазмохимическое, ионно- и электронно-лучевое модифицирование поверхности
Физические методы (лазерные, электронно-лучевые, ионно-плазменные) осаждения слоев нанометровых толщин
Энциклопедический словарь нанотехнологий. — Роснано. 2010.